W-CVD ― 2024年01月24日 09:41
W-CVDという新しい装置がリリースされました。
Wはタングステンという金属です。電球のフィラメントなどに使われています。
この装置はWを生成するときプラズマを使いません。高熱による反応だけです。
化合ではなく還元、水素還元とシラン還元反応です。
WF6というガスからH2（水素）を使って、F6を取り去り、Wだけを半導体上に残します。
あるいは、SiH4（シラン）というガスを使って、同じ結果を得ます。
反応速度と半導体下地への接着性の違いにより、二つの還元を使い分けます。
PECVD、ガラスなどの絶縁体を生成する装置。Dielectric （絶縁体） CVDということもあります。
W-CVD、タングステンという導体を生成する装置。Metal （金属) CVDということもあります。
9/9/93-10/10/93 W-CVD装置トレーニングにSan Joseに行きました。
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