F社-1 ― 2024年01月29日 10:40
1996年8月、F社に入社しました。
当時は半導体の景気が良くて、転職にさしたる苦労はありませんでした。
F社には装置が2種類あり、私はスパッター、またはPVDと呼ばれる装置を担当することになりました。
PVD : Physical Vapor Deposition 物理的気相成長
配線材料であるアルミなどの塊（ターゲットと呼びます）にアルゴンガス分子を衝突させて、衝突エネルギーでターゲットから飛び散るアルミ分子などを半導体に付着させるものです。
各種半導体製造装置は、よくもこんなものを考えて、実現したものだ、といつも驚かされます。
フィールドエンジニアとして、本社からのエンジニア二人と共に顧客工場でPVDの新しいプロセスを立ち上げました。顧客に装置の性能を評価して貰うためです。
初日、ホテルでJohnとEdを拾って顧客工場へ行ってくれ、と言われて、Johnがフィリピン系でEdは韓国系で、ロビーで見つけるまでちょっと戸惑いました。
PVDトレーニングでカリフォルニア州Palo Altoに出張：2/21/97-3/24/97
オペレーション1週間、メインテナンス1週間、エレクトロニクス2週間の合計4週間。
残念な事実として、この頃から妻とうまくいかなくなったことを記録しておきます。
5/7/97、PVD装置のビジネスユニットがD社に売却されました。
このままでは、私はまたD社に逆戻り？
ちょっと揉めて、外部にも相談して、お断りして、I/Iビジネスユニットに異動となりました。
I/I : Ion Implanter イオン注入装置、Pタイプ、Nタイプの半導体を作る為にあえて不純物（イオン）を注入する装置です。
97年8月、パラグライダー一日体験。
4-5日の練習で230mの山から飛べるとのことで、続けてみることにしました。
9月、パラグライダーで初めての山飛び。これはその後25年間の趣味になりました。
9月、パラグライダーのために河口湖まで行くも雨で戻る途中、対向車がスリップしてきてぶつけられました。
10/4/97-11/8/97、マサチューセッツ州GloucesterでI/Iのトレーニング。
装置が売れていて、トレーニングも忙しく、2nd shiftで15:30-22:30のクラスでした。
日本で入手出来なかったたまごっちをみつけて、娘のお土産にしました。
11/19/97-11/22/07、社員旅行で香港へ行きました。
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