半導体洗浄装置 ― 2024年01月17日 08:24
洗浄装置は大別して2種類ありました。
ひとつはAcid Processor、酸処理装置、酸と実はアルカリも使うのですが､薬品で洗浄する装置。
有機汚染は、硫酸と過酸化水素水の混合溶液で洗浄します。
金属汚染は、塩酸と過酸化水素水で洗浄します。
パーティクル（小さいゴミ）は水酸化アンモニアと過酸化水素水です。
最後に純水でリンスして、洗濯機の脱水のように高速回転で水滴を飛ばして窒素ガスを吹き付けて乾燥させます。
もうひとつはRinser Dryer、上記Acid Processorのリンスとドライの機能だけを持つものです。
硫酸とか塩酸とか恐いのですが、最も危険なのはフッ酸です。
これは肉を溶かして骨に達して､死亡します。運が良ければ､手足の切断で命が助かるというものです。
ガラスを溶かす為に使用します。
私の担当はRinser Dryerのコントローラ引き取り修理と、その他いろいろ。
装置組み立て、新しいコントローラ開発、プラズマ電源開発、、、。
技術担当専務が技術志向で、自衛隊のヘリに積む電源装置を受注したり、高周波焼入れ炉のパワーモニターを開発したり、エアコンのカロリーメータなど少しだけ手伝いをすることが出来ました。
専務はA社に参加する前は自分で会社を経営していて、中曽根美樹美容サロンの美容器を作っていたこともあるとのこと。美容器のアイデアは中曽根から出てきて、それを実際の機械として設計して作り上げるのだそうです。かなり儲けさせて貰ったとか。
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